produtos

Introdución Os requisitos de alimentación para un xestor de procesos de alto rendemento (HPM) poden requirir a instalación dun ou máis sistemas de alimentación nun complexo de armarios. Este requisito depende do número e dos tipos de módulos de xestor de procesos de alto rendemento (HPMM), procesadores de entrada e saída (IOP) e conxuntos de terminación de campo (FTA) no subsistema. Nun subsistema grande de xestor de procesos de alto rendemento con HPMM e IOP redundantes, pode ser conveniente instalar os HPMM en armarios separados cun sistema de alimentación en cada armario. Con esta configuración, unha falla de alimentación nun sistema de alimentación non provoca a falla dos HPMM nin das IOP primarios e secundarios. Carga de alimentación e arranque inicial Outras consideracións son a carga non lineal e o arranque inicial que o subconxunto do sistema de alimentación aplica á fonte de CA cando se aplica a alimentación. Liquidación do fusible A liquidación do fusible (3 A) na tarxeta de enlace de E/S de alto rendemento no HPMM pode requirir corrente adicional que unha única fonte de alimentación non pode proporcionar adecuadamente; polo tanto, recoméndase un sistema de alimentación con módulos de fonte de alimentación redundantes. Requisitos de carga do sistema de alimentación Os requisitos de carga de cada sistema de alimentación deben examinarse en función das opcións instaladas no Xestor de procesos de alto rendemento. Estas demandas coméntanse no manual de planificación do sitio do sistema TPS. Consideracións sobre o sistema de alimentación Cada sistema de alimentación pode fornecer ata 20 A de alimentación de 24 V CC. Ao calcular o requisito de corrente total, pode determinar cantos sistemas de alimentación se requiren. Se se require máis dun sistema de alimentación, pode ser conveniente conectar cada módulo de xestor de procesos de alto rendemento (HPMM) a un sistema de alimentación separado. Tamén pode ser conveniente conectar o IOP "A" e o IOP "B" dun par redundante a sistemas de alimentación separados. Anteriormente, a Figura 2-25 ilustraba un subsistema típico do Xestor de procesos de alto rendemento con HPMM redundantes no mesmo armario. A Figura 2-26 ilustraba un subsistema grande típico nun complexo de armarios cos HPMM redundantes en armarios separados. A Figura 2-25 ilustraba un complexo de armarios local cos HPMM redundantes en armarios separados e un armario remoto con ficheiros de tarxetas de IOP.